【国金科创前沿】 | 半导体#中微半导体第2期

【国金科创前沿】 | 半导体#中微半导体第2期
2019年04月21日 09:00 新浪财经-自媒体综合

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来源:国金证券研究所

内容来源:《科创板半导体研究:大国重器——中微半导体》(报告始发于2019年4月11日)

国金证券研究所

创新技术与去企业服务研究中心

半导体团队

主要投资逻辑:所属行业发展前景良好+公司自身产品竞争力提升+国家战略支持。

行业前景发展良好:公司主营刻蚀机(营收占比34%)和MOCVD(营收占比50%)两大产品。位处半导体行业中上游,整体行业景气度伴随着半导体周期而波动,拉长时间轴看,半导体设备整体产值稳步向上,预计未来5年CAGR=8%-10%。

刻蚀设备:在集成电路设备领域中成长性最好。2018年刻蚀设备市场规模约为155亿美金,预计未来5年刻蚀的市场增速将超过半导体设备平均增速,或将达到15%。成长动力来自于:先进集成电路制造越来越复杂,芯片里面结构的微缩所需工艺要求越来越高,故此对于刻蚀工艺的要求越来越高。

MOCVD:将受益于新兴显示技术(MiniLED、MicroLED)。2017年市占率30%,预计2018年市占率超过50%。预计三年后MiniLED+MicroLED整体市场规模将是现在传统LED市场规模的两倍以上,对于MOCVD需求有持续拉动。

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国金证券 中微 科创

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