投资者提问:公司与中科院微电子研究所、西安电子科大合作研发的是以SiC、G...

投资者提问:公司与中科院微电子研究所、西安电子科大合作研发的是以SiC、G...
2019年10月12日 15:59 问董秘

投资者提问:

公司与中科院微电子研究所、西安电子科大合作研发的是以SiC、GaN为代表第三代半导体材料的半导体器件,也就是宽禁带半导体,请问此碳化硅、氮化镓研发项目是包括材料、芯片、器件等全产业链吗?碳化硅、氮化镓在5G领域将有着广泛的应用,比如射频芯片及射频器件,公司是否也会将碳化硅、氮化镓应用于5G相关产业链中?谢谢。

董秘回答(捷捷微电SZ300623):

尊敬的投资者,您好!感谢您的关注。公司与中科院微电子研究所、西安电子科大合作研发的是以SiC、GaN为代表第三代半导体材料的半导体器件,具有耐高压、耐高温、 高速和高效等优点,可大幅降低电能变换中的能量损失,大幅减小和减轻电力电子变换装置,是当前新型电力电子器件的研发主流,其相关技术与产品在工业传动、军工、铁路、智能电网柔性输变电、消费电子、无线电力传输等领域,以及智能汽车及充电桩、太阳能发电、风力发电等新能源领域具有广阔的市场,宽禁带电力电子器件产品将是未来电力电子技术的重要价值增长点。公司目前有少量碳化硅器件的封测,该系列产品仍在持续研究推进过程中,尚未进入量产阶段,具体进展情况请关注公司公告。谢谢!

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