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原标题:高通副总裁:中国知识产权保护与创新发展形成良性循环 来源:新华社新闻
美国高通公司副总裁兼法律顾问约翰·A·斯科特在2019年国际知识产权保护论坛发表演讲。新华社发(彭异摄)
新华社武汉11月23日电(记者乐文婉、邹学冕)美国高通公司副总裁兼法律顾问约翰·A·斯科特21日在2019年国际知识产权保护论坛上表示,中国知识产权保护与中国的创新发展间形成了良性循环。
斯科特说,中国在全球创新指数排行中连续7年保持上升势头,2019年排名提升至第14名,这是中国保护知识产权与中国过去10年间发展教育、科技协同作用的结果。
斯科特表示,做研究是非常费钱的,尤其是对基础科学的研究。保护知识产权能保障发明者与艺术家创作的收入,如果他们没有获得相应回报的话,对于创新的激励就会减少。因而,知识产权保护与创新发展间存在良性循环关系,这也是中国能够在创新指数上快速提升的原因之一。
作为第十九届华侨华人创业发展洽谈会的重要内容,首次国际知识产权保护论坛21日在武汉举行。来自中国、美国、日本、巴基斯坦、印度尼西亚等15国家和地区的300余名中外嘉宾出席。
世界知识产权组织中国办事处顾问邓玉华表示,中国是全球知识产权舞台上的重要一方,长期以来,中国已经从国际知识产权规则的接受者和学习者成长为规则的参与者、建设者和部分领域的引领者。
“中国的经验可以为广大发展中国家提供良好范例。”邓玉华说,“我们希望中国可以将这些经验分享给其他国家,向他们讲述中国在知识产权保护以及利用知识产权保护实现发展方面的好经验。”
数据显示,2018年中国国家知识产权局受理专利申请约154万件,占全球总量的46.4%,数量居全球第一;同年,国外在华发明专利申请量达14.8万件,同比增长9.1%,实现“十三五”以来最快增速。
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