【长江化工】光刻胶系列报告（二）：涉及哪些原辅料，本土企业进展如何？ ———————————————
光刻胶是光刻的核心材料，技术壁垒高，其中应用于集成电路的光刻胶是我国半导体产业核心的“卡脖子”材料，光刻胶主要由成膜树脂、增感剂、活性单体、溶剂和助剂组成，搭配显影液、剥离液等配套试剂使用。与光刻胶本身相似，其原辅料亦较依赖进口。
单体：用于树脂聚合，合成难度大、纯度及金属离子要求高，产业化困难，依赖进口。【徐州博康】（华懋科技参股）单体技术储备充分，产品外销至日韩；【万润股份】具备相关产品。
树脂：是最重要的组成部分，以ArF光刻胶为例，其树脂质量占比仅5-10%，但成本占光刻胶原材料总成本的97%以上。国内企业如【圣泉集团】、【徐州博康】、【彤程新材】、【万润股份】均有布局。
溶剂：含量占比最高，ArF光刻胶中约达94.4%，整体本土化供应程度高，PMA（丙二醇甲醚醋酸酯）份额遥遥领先，国内上市公司【百川股份】、【怡达股份】均有布局。
光敏材料：是组成成分中“对光敏感”的化合物，曝光下分解，产生质子酸催化树脂分子链发生脱保护反应，从而改变曝光区域的溶解性，国产化率低，【强力新材】、【久日新材】等有所布局。
配套试剂：主要为显影液和剥离液。显影液主要用于光刻胶溶解，正胶一般使用TMAH作为显影液，【格林达】有所布局。剥离液用于去除光刻胶及残留物志，【江化微】、【晶瑞电材】等众多企业布局。
大国博弈愈演愈烈，半导体核心原料自主可控事关重要，建议关注光刻胶产业链相关标的投资机会。
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