2021年全球半导体光刻胶行业市场规模与竞争格局分析 市场稳步增长、产能集中度较高

2021年全球半导体光刻胶行业市场规模与竞争格局分析 市场稳步增长、产能集中度较高
2021年09月18日 16:20 前瞻网

原标题:2021年全球半导体光刻胶行业市场规模与竞争格局分析 市场稳步增长、产能集中度较高 来源:前瞻产业研究院

中国光刻胶行业主要上市公司:飞凯材料(300398)、容大感光(300576)、广信材料(300537)、上海新阳(300236)、永太科技(002326)、雅克科技(002409)、江化微(603078)等。

本文核心数据:全球半导体光刻胶市场规模,全球半导体光刻胶市场结构

1、半导体是光刻胶主要应用领域之一

光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体,光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。光刻胶的应用领域包括半导体产业、面板产业和PCB产业。光刻胶按下游应用分类,可分为半导体光刻胶、面板光刻胶和PCB光刻胶。

根据法国知名调研机构-Reportlinker于2020年7月公布的数据显示,2019年,全球光刻胶在半导体领域的应用比例为22%:

2、2021年全球半导体光刻胶市场规模将达19亿美元

光刻胶是半导体图形化工艺的关键材料,据统计,光刻胶在半导体产业制造中成本占比约为12%。近年来,在半导体市场需求的驱动下,光刻胶市场规模也不断增长,2020年,全球光刻胶市场规模已突破17亿美元。

3、ArFi光刻胶、KrF线光刻胶市场份额最大,产能集中度高

目前半导体光刻胶最常使用曝光波长分类,主要有g线、i线、KrF、ArF和最先进的EUV光刻胶。越先进制程相应需要使用越短曝光波长光刻胶,以达到特征尺寸微小化。

数据显示,2020年,全球半导体光刻胶市场中,ArFi光刻胶和KrF光刻胶的市场份额最大,均在30%以上,其次是g/I光刻胶,市场份额约为17%。

从全球半导体厂商生产情况来看,目前,全球半导体光刻胶产能主要集中在头部企业中,例如日本JSR、东京应化均可量产主要类型的半导体光刻胶;而在我国企业中,北京科华微国内半导体光刻胶龙头企业,可量产i/g line胶、KrF胶,其余国产厂商也正加快产品研发和产能建设:

以上数据参考前瞻产业研究院《中国光刻胶行业市场前瞻与投资规划分析报告》,同时前瞻产业研究院还提供产业大数据、产业研究、产业链咨询、产业图谱、产业规划、园区规划、产业招商引资、IPO募投可研、招股说明书撰写等解决方案。

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