投资者提问:
据了解,臭氧在半导体晶圆清洗和抗剥离应用等方面可用于去除有机物、去除金属和颗粒、光刻胶剥离、以及消毒等方面,请问公司在这方面是否有研究应用?
董秘回答(国林科技SZ300786):
尊敬的投资者,您好。公司一直以来致力于研究臭氧系统设备在多个行业应用,感谢您对公司的关注。
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