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投资者提问：
国产大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000：先进微纳器件3D光刻突破 可以用在功率半导体器件上和光电子芯片上么？ 预计售价多少？
董秘回答(苏大维格SZ300331)：
您好，公司研制的大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000首个工业应用项目是大尺寸柔性透明导电膜模具，新的应用正在开发中；目前iGrapher3000主要是自用，未对外销售。感谢您的关注！
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