好消息：晶瑞股份采购的ASML光刻机已进厂 用于研发ArF光刻胶

　　好消息！这家公司采购的ASML光刻机已进厂

　　时隔三个多月，这台ASML的光刻机终于入厂了。

　　早在2020年9月29日，晶瑞股份公告，拟通过代理商进口韩国芯片厂商SK海力士的一台阿斯麦的光刻机，总价1102.5万美元。消息一出，公司股价立刻大涨。

　　2021年1月19日晚，晶瑞股份公告称，经公司多方协商、积极运作，顺利购得ASML XT 1900 Gi型光刻机一台。该设备于2021年1月19日运抵苏州并成功搬入公司高端光刻胶研发实验室。下一步，公司将积极组织相关资源，尽快完成设备的安装调试工作。

　　来源：晶瑞股份

　　晶瑞股份董秘陈万鹏告诉中国证券报记者：“公司主要用来测试正在研发的ArF光刻胶，在这个领域我们国家还是空白，光刻机会很大程度加快公司的研发进程。同时公司未来准备以这台光刻机为核心设备，打造一个半导体材料的综合研发平台。”

　　来源：Wind

　　用于研发ArF光刻胶

　　晶瑞股份是通过代理商从SK海力士手里购买的一台二手浸入式（DUV）光刻机。

　　公告介绍，公司采购的光刻机设备为ASML XT 1900 Gi型ArF 浸入式光刻机，可用于研发最高分辨率达28nm的高端光刻胶。

　　据了解，根据曝光波长不同，目前光刻胶可分为普通宽普光刻胶、 g线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）及最先进的 EUV(<13.5nm) 光刻胶，等级越往上，其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度就越大，性能越好。

　　晶瑞股份采购的ASML1900型光刻机有助于其研发ArF（193nm）光刻胶。

　　来源：晶瑞股份

　　晶瑞股份全资子公司苏州瑞红，是国内最早规模量产光刻胶的几家企业之一。苏州瑞红1993年开始光刻胶生产，量产光刻胶近30年，组建了国内领先的光刻胶研发团队，具有丰富的光刻胶研发和生产经验，先后承担了国家“85”攻关、“863”重大专项、科技部创新基金等科技项目、承担了国家02重大专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，并顺利通过国家02重大专项验收。

　　据介绍，公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，达到0.15μm的分辨率。本次购买的ASML光刻机设备系公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目的必要实验设备，旨在研发出更高端的ArF光刻胶。若研发工作进展顺利，将有助于公司将光刻胶产品序列实现到ArF光刻胶的跨越，并最终实现应用于12英寸芯片制造的战略布局。

　　晶瑞股份公告称，本次公司采购的ASML光刻机设备顺利交付，可以保障公司集成电路制造用高端光刻胶研发项目关键设备的技术先进性，对加快产品研发项目进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，有助于落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。

　　晶瑞股份也提示，公司研发项目经历时间较长，且至产业化并最终实现销售产生利润仍需一定时间，本次购买的光刻机设备价格昂贵，其折旧及后续维护费用预计对公司的经营业绩存在一定影响。

　　光刻胶研发有进展

　　晶瑞股份公告中表示，目前高端集成电路材料的核心产业化技术仍掌握在国外企业手中，大部分市场份额仍被外企所占据，不少集成电路用关键材料已经成为我国“卡脖子”的技术领域，在国际环境日益严峻的情况下，如不能成功实现该领域的国产化，未来将付出更大的代价。

　　公开信息显示，以ArF光刻胶、KrF厚膜光刻胶为代表的高端光刻胶以及工艺的主要技术和专利目前都掌握在国外的企业与研究部门，如日本的信越化学(Shin-Etsu Chemical)、合成橡胶(JSR)、东京应化(TOK)、住友化学，这些企业几乎占据了国内外高端光刻胶市场全部份额。

　　ArF光刻胶是集成电路制造领域的重要关键材料，可以用于 90nm-14nm，甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺。广泛应用于高端芯片制造（如逻辑芯片、 AI 芯片、5G 芯片、大容量存储器和云计算芯片等）。

　　在ArF光刻胶研发的过程中，光刻机必不可少，其购买、运输、安装过程也备受关注。

　　1月5日，上海新阳公告称，自立项开发193nm ArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，根据项目进度，计划安排购买了ASML-1400光刻机等核心设备。后受美国针对我国半导体行业的出口管制措施加强及新冠疫情影响，公司进口光刻机的程序更加复杂。公司与光刻机供应商、合作方沟通协调设备运输与安装细节，涉及场地条件、物流运输条件等等，没能在规定时间内完成，但就具体合作细节已签署了《合作框架协议》。

　　上海新阳介绍，未来公司将采购的用于193nm ArF干法光刻胶研发的ASML-1400光刻机放置于合作方指定的地点，双方正在沟通协商光刻机入厂的底座安装及制作事宜，待底座安装完成后，光刻机即可进入合作方进行调试使用。预计光刻机进入合作方现场的时间是2021年3月底前。

　　2020年12月17日，南大光电公告显示，控股子公司宁波南大光电材料有限公司（简称“宁波南大光电”）自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户的使用认证。

　　宁波南大光电购买安装的光刻机也是ASML的1900型号浸没式光刻机。公告介绍，“ArF光刻胶产品开发和产业化”是宁波南大光电承接国家“02专项”的一个重点攻关项目。本次产品的认证通过，标志着“ArF 光刻胶产品开发和产业化”项目取得了关键性的突破。

　　南大光电介绍，ArF光刻胶的市场前景好于预期。随着国内IC行业的快速发展，自主创新和国产化步伐的加快，以及先进制程工艺的应用，将大大拉动光刻胶的用量。本次通过客户认证的产业化意义大。本次验证使用的50nm闪存技术平台，在特征尺寸上，线制程工艺可以满足45nm-90nm光刻需求，孔制程工艺可满足65nm-90nm光刻需求，该工艺平台的光刻胶在业界有代表性。

　　此外，南大光电1月4日还公告完成了对宁波南大光电的增资扩股，宁波南大光电实现融资2.6亿元。

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责任编辑：陈志杰