原标题：晶瑞股份：公司目前没有研发F2和EUV光刻胶的计划 来源：同花顺金融研究中心
同花顺金融研究中心8月1日讯，有投资者向晶瑞股份提问， 网传公司自主研发的ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先进的EUV（＜13.5nm）光刻胶产品近日已通过客户认证，可用于14～3nm光刻芯片生产，并成功取得台积电、中芯国际首批订单。是真的吗？
公司回答表示，尊敬的投资者您好！公司已正式启动ArF高端光刻胶研发工作，旨在研发满足90-28nm芯片制程的ArF（193nm）光刻胶，公司目前没有研发F2和EUV光刻胶的计划。感谢您对公司的关注与支持！
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