微导纳米申请反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法专利,可提高反应设备的整体清洁效率

微导纳米申请反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法专利,可提高反应设备的整体清洁效率
2024年06月18日 07:05 金融界网站

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金融界2024年6月18日消息,天眼查知识产权信息显示,江苏微导纳米科技股份有限公司申请了一项名为“反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法”的专利,公开号CN202410302348.X,申请日期为2024年3月。

专利摘要显示,本申请提供了反应设备、半导体镀膜设备以及用于反应设备的清洁方法,反应设备包括:反应室,反应室内形成反应腔;主抽管路,连通反应腔,主抽管路设置有主阀门;主进气支路,连通反应腔;清洁进气支路,连通反应腔和/或连通主抽管路。本申请的反应设备的工艺气体和被激发的清洁气体可通过不同的管路进入反应腔,无需均通过主进气支路进入反应腔。因此,工艺气体可通过主进气支路进入反应腔,反应腔内对应主进气支路的区域可用于设置喷淋组件,以均匀工艺气体;被激发的清洁气体可通过清洁进气支路导向目标位置,无需经过喷淋组件,避免自由基经过喷淋组件产生碰撞而失活,从而可提高反应设备的整体清洁效率。

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