安集科技申请一种轻擦抛光组合物专利，轻擦抛光组合物能够去除氧化硅介电层_新浪财经

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金融界2024年6月18日消息，天眼查知识产权信息显示，安集微电子科技（上海）股份有限公司申请一项名为“一种轻擦抛光组合物“，公开号CN202211595637.0，申请日期为2022年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种轻擦抛光组合物，包括：氧化铈研磨颗粒，阴离子型聚合物，阳离子型聚合物，含氮杂环羧酸和非离子型表面活性剂。本发明提供的抛光组合物，使用近乎没有研磨颗粒的用于氧化硅轻擦的抛光液组分，轻擦抛光组合物能够去除氧化硅介电层，（比如，低于50ppm固含量的抛光速率大于），停止在钨，氮化硅或者多晶硅上（抛光速率小于或者小于或者小于）。

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