安集科技申请化学机械抛光液及其用途专利,能够提高产品的良率

安集科技申请化学机械抛光液及其用途专利,能够提高产品的良率
2024年06月18日 06:35 金融界网站

转自:金融界

本文源自:金融界

金融界2024年6月18日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液及其用途“,公开号CN202211595036.X,申请日期为2022年12月。

专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液及其用途,其中所述化学机械抛光液包括:氧化铈研磨颗粒,有机酸以及多糖。本发明中的化学机械抛光液具有较好的稳定性,便于实际使用时进行保存以及后续的使用;同时,在用于抛光图形晶圆时,能够快速去除台阶,达到平坦化的效果,同时能够自动停止抛光当图形晶圆的台阶磨平以后以免过抛,从而提高产品的良率。

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