微导纳米申请原子层沉积设备及其方法专利,有效解决腔室内的气相前躯体分布不均、利用率低的问题

微导纳米申请原子层沉积设备及其方法专利,有效解决腔室内的气相前躯体分布不均、利用率低的问题
2024年06月03日 20:05 金融界网站

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金融界2024年6月3日消息,天眼查知识产权信息显示,江苏微导纳米科技股份有限公司申请一项名为“原子层沉积设备及其方法“,公开号CN202410303941.6,申请日期为2024年3月。

专利摘要显示,本申请实施例涉及一种原子层沉积设备及其方法。该原子层沉积设备包含:沉积腔室、第一气体源、连接到第一气体源与沉积腔室之间的第一输入管路、其一端连接沉积腔室的输出管路、对所述输出管路产生真空的真空源、连接到第二气体源与输出管路之间的支路。当所述原子层沉积设备在通源模式时,第一输入管路供应来自第一气体源用于制备膜层的气相前躯体到沉积腔室,且支路供应来自第二气体源的补偿气体到输出管路。与现有技术相比,本申请提供的一种原子层沉积设备及其方法,有效解决腔室内的气相前躯体分布不均、利用率低的问题,可提升产品质量,同时还也可提高生产效率。

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