收藏！2023年全球CMP抛光液产业技术竞争格局(附区域申请分布、申请人排名、专利申请集中度等)|专利_新浪财经

转自：前瞻产业研究院

行业主要上市公司：安集科技(688019)、上海新阳(300236)、鼎龙股份(300054)、万华化学(600309)等

本文核心数据：技术来源国、专利申请人排名、专利申请新进入者、市场最高专利价值

全文统计口径说明：1)搜索关键词：CMP抛光液及与之相近似或相关关键词;2)搜索范围：标题、摘要和权利说明;3)筛选条件：简单同族申请去重、法律状态为实质审查、授权、PCT进入指定国(指定期)，简单同族申请去重是按照受理局进行统计。4)统计截至日期：2023年4月17日。5)若有特殊统计口径会在图表下方备注。

1、全球CMP抛光液技术区域竞争格局

(1)技术来源国分布：中国大陆占比最高

目前，全球CMP抛光液第一大技术来源国为中国，中国大陆CMP抛光液专利申请量占全球CMP抛光液专利总申请量的33%以上;其次是美国，美国CMP抛光液专利申请量占全球CMP抛光液专利总申请量的27%左右。

统计说明：①按每件申请显示一个公开文本的去重规则进行统计，并选择公开日最新的文本计算。②按照专利优先权国家进行统计，若无优先权，则按照受理局国家计算。如果有多个优先权国家，则按照最早优先权国家计算。

(2)专利申请趋势：中国和美国为主要来源国，中国专利数量持续领先

从趋势上看，2004-2021年，中国为主要CMP抛光液专利来源国家，多年数量保持领先，且数量差距在不断扩大。来自于美国的专利数量仅次于中国。2022年来自于中国的CMP抛光液专利数量达到76项。

(3)中国区域专利申请分布：上海专利数量持续领先

中国方面，上海为中国当前申请CMP抛光液专利数量最多的省份，当前累计CMP抛光液专利申请数量达221项。广东申请CMP抛光液专利数量超过30项。中国当前申请省(市、自治区)CMP抛光液专利数量排名前十的省份还有山东、江苏、辽宁、天津、北京、浙江、台湾和四川。

统计口径说明：按照专利申请人提交的地址统计。

趋势方面，2004年开始上海CMP抛光液专利申请数量保持着全国第一的位置，2021年被广东、山东等省市赶超。整体来看，上海的数量优势比较明显，以广东为代表的地区也在不断发展。

统计口径说明：按照专利申请人提交的地址统计。

2、全球CMP抛光液技术申请人竞争格局

(1)专利申请人集中度：市场集中度较高，CR10波动变化

2004-2023年4月，全球CMP抛光液专利申请人CR10呈现波动变化的趋势，由2004年的81.25%波动增长至2023年4月的100.00%。整体来看，全球CMP抛光液专利申请人集中度较高。

统计口径说明：市场集中度——CR10为申请总量排名前10位的申请人的专利申请量占该领域专利申请总量的比例(其中，有联合申请时，专利数量不会被去重计算)。

(2)TOP10专利申请人

——总量及趋势：安集科技夺得桂冠，领先优势较为明显

全球CMP抛光液产业专利申请数量TOP10申请人分别是安集微电子(上海)有限公司、安集微电子科技(上海)股份有限公司、RESONAC CORP、罗门哈斯电子材料CMP控股公司、弗萨姆材料美国有限责任公司、秀博瑞殷股份有限公司、台湾积体电路制造股份有限公司、大连理工大学、上海新安纳电子科技有限公司和凯斯科技股份有限公司。

其中，安集微电子(上海)有限公司和安集微电子科技(上海)股份有限公司CMP抛光液专利申请数量分别为117项和86项。