9月19日，受电子院辟谣光刻机工厂、相关公司澄清业务概念涉及情况等因素影响，光刻机作为前期市场热门概念板块连续两日出现大幅调整。
市场情况：截止发稿，波长光电、京华激光、苏大维格跌超8%，东方嘉盛、晶方科技、同飞股份、张江高科等回调幅度明显。
异动相关消息：
1、据媒体报道，近期，一则消息在各大视频平台广为传播，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地。对此，中国电子工程设计院有限公司9月18日发声，称该项目并非网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。
2、京华激光近日公告称，经自查，公司未发现需要澄清或回应的媒体报道或市场传闻；也未发现其他可能对公司股票交易价格产生较大影响的重大事件，公司未涉及市场热点概念；
铭普光磁（维权）近日于互动平台表示，公司暂无光刻机方面的业务。
联合精密近日于互动平台表示，公司暂时没有开发光刻机相关零部件产品，公司一直致力于新客户及新业务的拓展，如有对公司经营业绩有重大影响的事项，我们将按照有关法律法规的要求及时进行信息披露。
苏大维格近日于互动平台表示，公司目前对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，
有投资者向东方嘉盛提问，清华大学发布的最新研究成果，针对euv光刻机和加速器方面，公司是否有与清华展开相关方面的合作？公司回答表示，公司是专业的一体化数字供应链服务商，主要客户是品牌生产厂商，暂时没有和高校展开科研类合作。
3、大族激光近日于互动平台表示，目前，公司光刻机项目主要应用在分立器件领域，分辨率3-5μm；其中，接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化，公司将根据市场需求及业务发展情况持续制定研发计划，并加大研发核心部件国产化。
市场观点：
中航证券近期研报指出，光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果，光刻重要性愈显，国内亟待0到1的突破。半导体行业十年翻倍，晶圆厂积极扩产，叠加芯片性能升级，光刻强度上升，预计5nm逻辑芯片的光刻支出占比达35%，光刻工艺的重要性愈发凸显，市场规模快速增长，预计2024年有望达230亿美元，ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光刻机进口约40亿美元，主要从日本、荷兰进口，出口管制下光刻机存在断供隐忧，自主可控势在必行。依托举国之力，汇聚各科研院之所长，目前已有阶段性成果陆续落地。光刻机产业化渐近，零部件投资先行，测算国内零部件市场空间约150亿元，市场空间大、技术关键性强。
浙江同花顺云软件有限公司投资顾问 徐一帆（执业编号 AA1040621100002 ）
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