9月15日，受激光直写光刻机、清华大学SSMB-EUV光源方案等各类消息影响，光刻机板块反复活跃，板块内多只个股异动明显。
市场情况：截至发稿，京华激光、东方嘉盛、京方科技、张江高科涨停，凯美特气一度触及涨停，人气股苏大维格冲高回落，振幅较大。
异动相关消息：
1、9月14日午间，苏大维格在投资者互动平台中对光刻机出货的描述，令公司股价瞬间20CM直线涨停。在股价涨停之时，投资者也大感疑惑，质疑公司上述“光刻机描述是否写错”。随后苏大维格做出澄清，表示公司出货并非如ASLM的EUV掩摸光刻机，而是激光直写光刻机。深交所15日早间立即对苏大维格下发关注函。
2、据媒体报道，天眼查App显示，近日，上海创消新技术发展有限公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利公布。摘要显示，该发明涉及芯片设计及制造，方案是：按5nm蚀刻线宽设计芯片版图，设计蚀刻掩模版后，用激光直写光刻机刻出蚀刻掩模版；晶圆准备好后将蚀刻掩模版紧靠晶圆上表面，用等离子体进行干法蚀刻，蚀刻结束后移去蚀刻掩模版，清洁晶圆，进行后续常规的芯片制造步骤。该发明不用EUV光刻机或DUV光刻机，不需要光刻过程，直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。
3、2021年2月，多家主流媒体曾报道，清华大学工程物理系唐传祥研究组与合作团队在《自然》上发表研究论文《稳态微聚束原理的实验演示》，报告了一种新型粒子加速器光源“稳态微聚束”的首个原理验证实验。与之相关的极紫外光源有望解决自主研发光刻机中最核心的“卡脖子”难题。该消息近日于各大社交媒体平台再度引发热议，关于光刻机技术路线相关讨论成为当前市场热点话题。
市场观点：
中航证券近期研报指出，光刻机由三大核心系统，数万个零件组成，是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果，光刻重要性愈显，国内亟待0到1的突破。半导体行业十年翻倍，晶圆厂积极扩产，叠加芯片性能升级，光刻强度上升，预计5nm逻辑芯片的光刻支出占比达35%，光刻工艺的重要性愈发凸显，市场规模快速增长，预计2024年有望达230亿美元，ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光刻机进口约40亿美元，主要从日本、荷兰进口，出口管制下光刻机存在断供隐忧，自主可控势在必行。依托举国之力，汇聚各科研院之所长，目前已有阶段性成果陆续落地。光刻机产业化渐近，零部件投资先行，测算国内零部件市场空间约150亿元，市场空间大、技术关键性强。
浙江同花顺云软件有限公司投资顾问 徐一帆（执业编号 AA1040621100002 ）
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