苏大维格:主要用于在某些特定基片上进行图形光刻而进行的承载台设计

苏大维格:主要用于在某些特定基片上进行图形光刻而进行的承载台设计
2020年08月02日 00:45 同花顺金融研究中心

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原标题:苏大维格:主要用于在某些特定基片上进行图形光刻而进行的承载台设计 来源:同花顺金融研究中心

同花顺金融研究中心8月1日讯,有投资者向苏大维格提问, 董秘您好,近日专利机构公示了公司在光刻机及基片光刻,光刻基片承载台方面的专利,请问该项专利的主要用途是什么?

公司回答表示,公司在光刻机及基片光刻、光刻基片承载台方面布局的专利,主要用于在某些特定基片上进行图形光刻而进行的承载台设计。感谢您的关注!

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