来源：格隆汇
格隆汇5月12日丨有投资者在投资者互动平台向南大光电(300346.SZ)提问，“请问贵司用于贵司的电子特气最高能用于多少nm的芯片制造？”
南大光电回复称，公司电子特气产品中，高纯磷烷、砷烷主要用于集成电路制造的掺杂工艺和LED的化学气相沉积工艺，是半导体生产的关键材料之一；三氟化氮是集成电路制造领域优良的等离子蚀刻和清洗材料，可用于先进制程芯片制造。
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