迈为股份取得曝光装置专利,能够自动测量获取掩膜版距离承载组件的高度

迈为股份取得曝光装置专利,能够自动测量获取掩膜版距离承载组件的高度
2024年06月17日 22:00 金融界网站

转自:金融界

本文源自:金融界

金融界2024年6月14日消息,天眼查知识产权信息显示,苏州迈为科技股份有限公司取得一项名为“一种曝光装置“,授权公告号CN221149141U,申请日期为2023年9月。

专利摘要显示,本实用新型涉及光伏电池片加工技术领域,尤其涉及一种曝光装置。该曝光装置包括升降驱动组件、承载组件及高度测量组件,升降驱动组件用于驱动掩膜版升降移动,承载组件位于掩膜版的下方,承载组件用于吸附固定产品基片,高度测量组件与升降驱动组件信号连接,高度测量组件包括第一测量件和第二测量件,第一测量件位于掩膜版的下方,第二测量件位于承载组件的下方,第一测量件能测量掩膜版距离预设基准面的高度,第二测量件能测量承载组件距离预设基准面的高度,以获取掩膜版距离承载组件的高度。该曝光装置能够自动测量获取掩膜版距离承载组件的高度,保证不同的掩膜版距离产品基片的高度均处于所需的高度处,并且检测精准,检测更加便捷。

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