新宙邦申请一种BOE蚀刻液及其应用专利,能够较好地实现对氧化硅层和氮化硅层的蚀刻性能

新宙邦申请一种BOE蚀刻液及其应用专利,能够较好地实现对氧化硅层和氮化硅层的蚀刻性能
2024年06月17日 21:10 金融界网站

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本文源自:金融界

金融界2024年6月13日消息,天眼查知识产权信息显示,深圳新宙邦科技股份有限公司申请一项名为“一种BOE蚀刻液及其应用“,公开号CN202211572886.8,申请日期为2022年12月。

专利摘要显示,本发明公开了一种BOE蚀刻液及其应用,属于湿电子化学品应用技术领域,按重量百分比计,包括1.00%~20.00%的氟化氢、1.00%~40.00%的氟化铵、0.05%~10.00%的添加剂,余量为水;所述添加剂选自等电点为w的氨基酸化合物,所述蚀刻液的pH值为v,且满足:w‑v≥1。本发明采用氟化氢、氟化铵和氨基酸化合物添加剂组成的BOE蚀刻液配方体系,能够较好地实现对氧化硅层和氮化硅层的蚀刻性能,平衡不同含硅层的蚀刻速率,从而避免药液用于多层硅系薄膜蚀刻时出现底切或突出问题。

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