捷佳伟创申请一种导片设备专利,能够避免硅片被污染,有利于保证良品率,降低生产成本

捷佳伟创申请一种导片设备专利,能够避免硅片被污染,有利于保证良品率,降低生产成本
2024年06月17日 20:50 金融界网站

转自:金融界

本文源自:金融界

金融界2024年6月13日消息,天眼查知识产权信息显示,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“一种导片设备“,公开号CN202410200392.X,申请日期为2024年2月。

专利摘要显示,本发明公开了一种导片设备,包括转载装置、第一上料装置、第一下料装置、第二上料装置、第二下料装置及机架,在工作过程中,两组三列的硅片沿X方向进入变轨区,其中,位于第一输送线上的硅片由变轨组件移动至相邻的第二输送线,经过变轨区后,两个第一输出组及一个第二输出组共同沿X方向输出三组两列的硅片,三组两列的硅片分别输出至三个干法花篮中,从而实现硅片从湿法花篮至干法花篮的自动化转载,无需人工操作,能够缩短转载所需的工时,提升生产效率,且能够避免作业人员接触硅片,从而能够避免硅片被污染,还能够避免由于作业人员手持不稳而导致的硅片掉落,有利于保证良品率,降低生产成本。

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