富创精密申请提高吸附效果的静电卡盘双电极结构专利，极化电荷分布均匀、吸脱附效果良好_新浪财经

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金融界2024年6月13日消息，天眼查知识产权信息显示，沈阳富创精密设备股份有限公司申请一项名为“一种提高吸附效果的静电卡盘双电极结构“，公开号CN202311712617.1，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体核心零部件静电卡盘领域，具体涉及一种提高吸附效果的静电卡盘双电极结构，该双电极结构整体图形结构为两个尺寸一致，平面面积相等，以圆心互成对称排布的两个独立电极结构；两个独立电极结构分别为静电卡盘的正负电极；正负电极沿各自对称中心线以递增螺旋线形式结合构成；电极中心线，即递增螺旋线每180°变更一次半径进行递增；半径以R，R+1*2R，R+2*2R，R+3*2R，……R+（n‑1）*2R进行半径变更。该结构的静电卡盘电极，结构简单、对称性好，极化电荷分布均匀、吸脱附效果良好。

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