转自：金融界
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金融界2024年6月11日消息，天眼查知识产权信息显示，浙江大华技术股份有限公司申请一项名为“高性能屏蔽吸波膜及相关器件“的专利，公开号CN202410611274.8，申请日期为2024年5月。
专利摘要显示，本申请公开了一种高性能屏蔽吸波膜及相关器件。屏蔽吸波膜包括：至少两个电磁波吸波层，所述电磁波吸波层的材料为具有叠层有序空穴结构的吸波材料；屏蔽层，所述屏蔽层设置在相邻两个所述电磁波吸波层之间，且所述屏蔽层设置有作为屏蔽间隙的通孔，所述通孔的两开口端一一对应地面向与所述屏蔽层相邻的两个所述电磁波吸波层。本申请的方案能够提高屏蔽吸波膜的吸波屏蔽性能。
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