大立科技取得一种超大面阵大光圈红外双视场光学系统专利，实现对目标的二次成像和图像均匀_新浪财经

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金融界2024年6月11日消息，天眼查知识产权信息显示，浙江大立科技股份有限公司取得一项名为“一种超大面阵大光圈红外双视场光学系统“，授权公告号CN221124975U，申请日期为2023年8月。

专利摘要显示，本实用新型涉及一种超大面阵大光圈红外双视场光学系统，属于红外成像技术领域，解决了现有技术中通过增大光圈以及提高探测器像素数，增加光学设计难度，且无法平衡冷反射，使图像不均匀，严重影响对目标的探测和识别的问题。该系统包括从物方至像方依次同轴设置的开普勒望远系统前固定组、切场组、开普勒望远系统后固定组和二次成像系统；通过切场组的切入切出实现大、小视场的切换；光束经过开普勒望远系统输出平行光，二次成像系统接收开普勒望远系统后固定组输出的平行光，并将平行光聚焦到探测器上。实现了光学系统冷反射强度的良好平衡，使焦平面阵列规模达到1280*1204/15um，光圈为2.0；有大小两个视场的快速切换，且适用于像移补偿。

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