日本修订出口管制名录 EUV光刻机相关设备须申请出口许可|日本_新浪财经

本报记者于布林北京报道

3月31日，日本经济产业省宣布根据相关法例调出口管制名录，增加23项出口管制事项，所涉产品出口须向经济产业大臣申请许可。极紫外光光刻机（EUV）的相关生产设备，三维堆叠存储元件的蚀刻设备等包含其中。据悉，这一措施将在2023年7月开始实施。

它们都被视为生产14纳米芯片的必要设备，而14纳米线宽在当前被视为划分芯片“先进制程”和”成熟制程”的标准，14纳米以下为先进制程。2022年10月，美国更新出口管制政策，限制14纳米以下的相关技术、人员、设备、产品和服务对中国内地出口。此后，美国又游说荷兰、日本政府，希望两国跟随美国，实施类似的出口管制。

不过，此次更新修订出口管制名单，日本未将中国列为特定监管对象。日本经济产业大臣西村康俊3月31日表示，“这与特定国家无关”。此前，荷兰贸易大臣Schreinemacher在写信给议会确认从夏天开始对半导体先进技术实施新的出口管制措施时，也未明确提及中国。

外交部发言人毛宁表示，全球芯片产业链供应链的形成和发展是市场规律和企业选择共同作用的结果，将经贸和科技问题政治化、工具化、武器化，人为破坏全球产供链的稳定，这种行为只会损人害己。

日本在全球芯片产业链上也占有重要地位。尼康（Nikon）公司是除荷兰AMSL公司以外，能够生产光刻机的重要企业。此外，日本企业是一些芯片产业链关键环节化学材料和相关设备的重要供应商。

按光源波长划分，光刻机可以分为UV（紫外光）、DUV（深紫外光）、EUV(极紫外光）三类，其中EUV最为先进，于2018年被荷兰政府限制出口。DUV次之，在此次荷兰政府更新出口管制措施前未受限制。DUV中较为先进的产品序列为ArFi，除荷兰AMSL外，日本尼康也可生产，该公司财务报告显示，2021年全年，ArFi出货量为3台。

尼康也具备EUV生产能力。2019年，尼康公司发布了NSR-S622D光刻机，可实现的最小线宽为5纳米水平；2021年，尼康公司发布NSR-S635E，可实现的最小线宽达到3纳米水平。此外，尼康公司还研发下一代EUV光刻机NSR-S645，可以实现更小的线宽。

在荷兰对EUV、先进DUV设备出口相继实施管制后，尼康公司的角色变得特殊和微妙。曾有业内人士分析认为，相比于荷兰企业，日本芯片产业链上的企业，美国技术使用比例相对较低，因此受到美国长臂管辖手段影响的可能性也相对较低，因此，可能有更大的合作空间。

除了尼康生产的光刻机外，日本企业在芯片及其生产设备的关键环节所须使用的化学制品及其原材料方面，占有重要地位，表现较为典型的是光刻胶。

在半导体制造前期阶段中，光刻胶涂抹于芯片表面，使用掩膜或光刻板将光线或电子束照射到光刻胶上，光源会导致光刻胶发生化学反应，进而形成所需的图案和结构，然后，芯片表面上没有被光刻胶保护的部分会暴露出来，这些区域可以在后续的芯片制造步骤中被加工和处理。光刻胶又分为正性光刻胶和负性光刻胶两种，后者用于更精密、线宽更小的芯片生产。

有能力生产先进光刻胶的主要是美国和日本公司。杜邦电子材料（DuPont Electronics & Imaging）、赛默飞世尔科技（Thermo Fisher Scientific .）等公司位于美国。信越化学集团（Shin-Etsu Chemical ）、东京电子化学工业株式会社（Tokyo Ohka Kogyo）是日本企业。

与尼康在光刻机领域的位势相近，2022年10月美国更新一系列出口管制措施限制芯片相关领域技术、人员、设备、产品和服务对中国出口后，信越化学、东京电子化学工业株式会社（下称东京电子）的角色也变得微妙。

记者多日前向东京电子询问日本出口管制及其对公司业务的影响，截至发稿时，未获回复。尼康也未对记者的询问做出答复。西村康俊3月31日表示，更新后的出口管制名录对日本企业盈利“影响有限”。

值得注意的是，3月31日上午，中国A股光刻胶概念股异动。wind数据显示，高盟新材（300200）、容大感光（300576）、同益股份（300538）、飞凯材料（300398）、强力新材（300429）、南大光电（300346）、蓝英装备（300293）等早间均出现不同程度的上涨。