申港证券--电子行业：国内加速布局光刻胶光刻胶行业任重而道远|申港证券_新浪财经

原标题：申港证券--电子行业：国内加速布局光刻胶光刻胶行业任重而道远来源：金融界

每周一谈：国内加速布局光刻胶光刻胶行业任重而道远

近期，、发布公告，加码光刻胶项目的研发与产业化。上海新阳主要目标为实现ArF干法工艺使用的光刻胶和面向3DNAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶的产业化，南大光电目标达到年产25吨193nm光刻胶产品的生产规模，产品性能满足90nm-14nm集成电路制造的要求。目前全球光刻胶市场日本处于领先地位。日本的JSR、东京应化、信越化学及富士电子四家企业占据了全球70%以上的市场份额，处于市场垄断地位。

国内光刻胶生产商主要生产PCB光刻胶，面板光刻胶和半导体光刻胶生产规模相对较小。国内生产的光刻胶中，PCB光刻胶占比94%，LCD光刻胶和半导体光刻胶占比分别仅有3%和2%。

半导体用光刻胶按不同制程可分为EUV光刻胶、ArF光刻胶、KrF光刻胶及G线、i线光刻胶。由于在研发光刻胶的过程中需要有对应光刻机的支持，规模量产后需要在光刻机上不断调试。而先进光刻机价格昂贵，国内半导体材料公司难以承受，目前高端光刻胶基本被日本及欧美垄断，国内半导体光刻胶主要集中在低端的g线、i线光刻胶。

EUV光刻胶：目前市场上最高端的光刻胶，与EUV光刻胶配合使用。在EUV光刻胶领域，日本企业处于绝对垄断地位。日本的JSR、信越化学、东京应化(TOK)等3家公司占全球EUV市场份额的90%以上。在EUV光刻胶领域，由于缺乏EUV光刻机的支持，目前国内还未开始涉及。

ArF光刻胶：国内北京科华、南大光电及上海新阳都开启相关研究，但目前还处于研发阶段。ArF光刻胶也主要被日本的JSR、信越化学、东京应化(TOK)3家公司占领。

KrF光刻胶：国内北京科华的KrF（248nm）光刻胶已经通过包括在内的部分客户认证，并实现批量供货；子公司苏州瑞红目前已进入中试阶段，但还未实现量产供货。

G线、i线光刻胶：目前北京科华和晶瑞股份子公司苏州瑞红都已实现量产供货。

投资策略及组合：在半导体光刻胶领域，国内与国外差距明显，国产替代任重而道远。我们建议关注半导体领域龙头公司，推荐组合：、、、、各20%。

风险提示：下游需求低于预期；行业发展低于预期；疫情影响大于预期。