投资者提问：
你好，请问公司ArF光刻胶产品是干法还是湿法？能适用的集成电路制程范围是多少？是否符合研发预期？谢谢！
董秘回答(南大光电SZ300346)：
感谢您的关注！目前公司ArF光刻 胶已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证，同时多款产品正在下游客户进行认证，具体请关注相关信息披露。
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