投资者提问:
贵公司有没有为14纳米芯片多重曝光制作过程中提供清洗相关光刻环节设备清洗服务?
董秘回答(富乐德SZ301297):
目前公司已研发并量产半导体14nm制程洗净工艺。 半导体光刻环节涉及溶胶显影设备、涂胶设备、光刻设备、对准检测设备等多种设备,其中溶胶显影、涂胶等设备系公司洗净服务对象(公司目前没有涉及光刻设备洗净)。
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