投资者提问：
董秘您好，本人查阅了网上关于高阶制程和芯片算力的资料发现未来随着对算力的要求越高，对芯片纳米级要求也越来越高，芯片高阶制也是必然趋势，请问公司的半导体臭氧清洗设备在芯片高阶制程中是替代物理清洗的方式吗，相比于别的清洗方式，在高阶制程中臭氧清洗有什么优势呢？谢谢
董秘回答(国林科技SZ300786)：
尊敬的投资者，您好。臭氧清洗属于湿法清洗中的化学方法，可以更有效降低化学药品的消耗和处置成本，提高清洁效率，避免发生二次污染。感谢您的关注。
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