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2024年10月10日,拉普拉斯新增“半导体概念”。
入选理由:招股说明书显示,在具体产品方面,公司持续对高温氧化设备和高温退火设备进行开发与优化,可适用于 SiC 基半导体器件生产工艺;公司 LPCVD 设备可满足氮化硅/氧化硅/多晶硅(Poly-Si)/非晶硅(α-Si)薄膜沉积技术的应用需求,并适用于半导体分立器件的生产。
公司涉及的其他概念:太阳能。
免责声明:本文基于AI生产,仅供参考,不构成任何投资建议,据此操作风险自担。
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