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金融界2024年6月21日消息,天眼查知识产权信息显示,深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司申请一项名为“一种单分子层SAMs的成膜方法“,公开号CN202410190780.4,申请日期为2024年2月。
专利摘要显示,本发明公开了一种单分子层SAMs的成膜方法,属于一种单分子层SAMs的成膜方法领域,包括以下步骤:基片送入ALD镀膜设备的镀膜腔中;预加热基片;SAMs溶液加热成SAMs气体;镀膜腔内通入SAMs气体吹扫基片,通入的SAMs气体的载气量为20sccm‑70sccm,通入时间为4s‑8s;镀膜腔内通入惰性气体吹扫基片,通入的惰性气体的载气量为50sccm,通入时间为26s‑52s;基片从ALD镀膜设备的镀膜腔中输出。本发明利用ALD镀膜设备实现SAMs薄膜的沉积,能够有效减少工艺时间,可以减少有机溶剂废液。
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