华映科技申请氧化物阵列基板及其制备方法专利，改善现有结构中寄生电容较大的问题|电路_新浪财经

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金融界2024年6月4日消息，天眼查知识产权信息显示，华映科技（集团）股份有限公司申请一项名为“一种氧化物阵列基板及其制备方法“，公开号CN202410114339.8，申请日期为2024年1月。

专利摘要显示，本发明提供一种氧化物阵列基板及其制备方法，所述阵列基板包括玻璃基板、底栅、第一栅极绝缘层、半导体层、第二栅极绝缘层、顶栅和驱动电路走线、第一中间绝缘层、第一透明导电层、第三金属层、第二中间绝缘层及第二透明导电层；半导体层的第一半导体单元两端设有导体区，第二半导体单元与底栅相对应；顶栅位于第一半导体单元上方；第三金属层的第一源极、漏极与导体区相连，第二源极、漏极与第二半导体单元相连，金属单元一与驱动电路走线相连；顶栅对应膜层结构为驱动电路区TFT，底栅对应膜层结构为显示区TFT，驱动电路走线对应膜层结构为金属线区。本发明可改善现有结构中寄生电容较大的问题，具有成本低结构简单、薄膜利用率高的优势。

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