据国外媒体报道称,ASML已经确认,即将出货最新款的EUV光刻机EXE:5200,相比上代来说,表现更加强悍,当然不会卖给中国厂商。
按照官方的说法,EXE:5200是现有初代High NA EUV光刻机EXE:5000的改进款,其将拥有更高的晶圆吞吐量(EXE:5000为每小时185片以上),可以更好的为2nm工艺量产做支撑。

在这之前,ASML宣布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机(一种具有高数值孔径和每小时 200 多片晶圆的极紫外 (EUV) 大批量生产系统),这标志着他们在引入0.55 NA EUV的道路上又迈出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55数值孔径,比前代EUV光刻机0.33数值孔径透镜的精度提高了,可以为更小的晶体管功能提供更高分辨率的模式。
EUV 0.55 NA 的设计旨在从2025年开始实现多个未来节点,这是业内首次部署,随后将采用类似密度的内存技术。

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9条评论|11人参与网友评论


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没节操的桔子北京
让他在那晃悠表演,我们就不搭理,不值得理会
2月2日01:25举报赞1回复

Stardust旋律辽宁大连
他出第几代机型对我们来说根本不重要
2月2日01:24举报赞1回复

电竞女团swag安徽
又不卖给我国,发给咱们干啥,跟咱没关系
2月2日02:27举报赞回复
最新评论

电竞女团swag安徽
又不卖给我国,发给咱们干啥,跟咱没关系
2月2日02:27举报赞回复

Chi原味辛酱河北石家庄
很期待它的实际表现
2月2日01:26举报赞回复

MemoriesOnTheWind北京
这进步真的挺大的
2月2日01:25举报赞回复
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