投资者提问：
请问陆总，据您了解，目前国内下游晶圆厂是否有28nm以下缺陷检测分析仪器，用于后期贵司高制程光刻胶的开发呢？
董秘回答(南大光电SZ300346)：
感谢您的关注！目前国内28nm以下制程用光刻胶缺陷检测设备主要集中在国内晶圆厂处。现阶段，公司ArF光刻胶的产品验证主要集中在90nm~28nm制程工艺，后续将视项目需要，确定缺陷检测仪的选用方案。
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