投资者提问:
董秘你好, 纳米压印光刻(NIL)是潜在的 EUV 光刻机的竞争者。根据最新资料,NIL 已经可以实现大面积量产能力。而大日本印刷(DNP)展示了一幅电子显微镜照片,显示 NIL 已经可以达到14 纳米的线宽分辨率,相当于达到 5 nm 芯片制程的能力。请问贵公司是否有这方面工艺研究。
董秘回答(苏大维格SZ300331):
您好,公司已注意纳米压印在上述领域的应用潜力,感谢您的关注,谢谢!
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