攻克类7nm工艺不靠光刻机?中芯国际:不予置评

攻克类7nm工艺不靠光刻机?中芯国际:不予置评
2021年05月11日 10:22 市场资讯

原标题:攻克类7nm工艺不靠光刻机?中芯国际:不予置评 来源:智八斗

  现在中国芯的道路还很难走,除了面对巨头围剿,还要担心供应链的问题,似乎在短时间内很难出现弯道超车的局面。

  当"芯片自给"成为了国民话题,所有的焦点都对准了中芯国际。5月11日有传闻称,中芯国际目前可以脱离EUV光刻机解决类7mm工艺。针对此,中芯国际方面回应不予置评。

  早前梁孟松提到中芯国际将于4月试产7nm芯片,但时间已经来到五月上旬,7nm的消息还“深陷”传闻中。看来对于中芯国际而言,目前在攻克7nm工艺上的风险还是存在。目前中芯国际网页上提到的先进技术仍是14nm工艺,并声称“这是目前自主研发的最高水平”。

  自20年第三季度以来,全球半导体行业遇到了严重缺芯状态,除了汽车行业外,大量采购芯片的手机厂商为了加快市场扩张也在无形中挤占中小厂商的份额,从而导致缺芯更为严重。对于芯片的先进制程,各大厂商又对台积电的依赖过高。不过已经试产3nm、并声称将于苹果合作带来2nm工艺的台积电目前在行业中的地位仍不容小觑。

  眼看巨头在飞速更新,不知何时能看到中芯国际7nm霸屏的实锤。好在种种迹象表明,成功的到来已为期不远,期待中芯国际将7nm的好消息尽快带给我们。

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