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原标题:1μm=1000nm!大族激光称在研光刻机分辨率达3-5μm,离高端水平差距还很大 来源:前瞻网
大族激光8月10日在互动平台表示,公司在研光刻机项目分辨率3-5μm,主要聚焦在分立器件、LED等方面的应用,目前已接到少量订单。
光刻机是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术,把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。而光刻机是中国芯片发展的最大障碍。
企查猫资料显示,大族激光科技产业集团股份有限公司成立于1999年3月4日,注册资本106,706.5245万元人民币,法定代表人为高云峰。
众所周知,高端芯片制造所需的光刻机一直以来被荷兰ASML公司垄断,一台精密光刻机售价上百亿,而我国半导体行业起步较晚,光刻机技术与ASML的差距非常大。
ASML在7nm级别,而大族激光仅为μm级别(1μm是1000nm)。因为光刻机每上一个台阶技术难度就会大大增加,可能从90nm升级到65nm并不难,但是从65nm升级到45nm,就是一个技术节点了,上升到7nm更是难上加难。
据有关媒体报道,光刻机正成为华为的第四场战役。据悉,余承东在一次百人大会上的时候透露过,早在四年前,华为就已经为接下来集团的布局做好准备了,他们在2016年的时候就已经成立了团队去研发光刻机,现在已经取得了很大的进展。
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