安集科技申请氧化铈专利,高的抛光速率和平坦化效率

安集科技申请氧化铈专利,高的抛光速率和平坦化效率
2024年06月21日 11:05 金融界网站

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金融界2024年6月21日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种氧化铈的表面处理方法、一种氧化铈及其用途“,公开号CN202211595667.1,申请日期为2022年12月。

专利摘要显示,本发明提供了一种氧化铈的表面处理方法,包括S1:将第一添加剂加入去离子水中,搅拌均匀后,加入氧化铈颗粒,然后将溶液转移至超声槽中,超声分散10‑90min,至氧化铈颗粒分散均匀;S2:向上述分散液中添加第二添加剂,搅拌均匀后转移至超声槽中,超声分散30‑180min,至氧化铈颗粒分散均匀。通过加入含阳离子的聚合物分子,通过电荷吸引,达成聚合离子对,实现对氧化铈表面的双层包覆,双层包覆的氧化铈颗粒具有高的抛光速率和平坦化效率,远远高于传统的以氧化硅为研磨颗粒的碱性ILD抛光液。

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