芯源微：交大安泰学院参访上海临港厂区 上半年化学清洗机拓客进展顺利

近日，上海交通大学安泰学院EMBA 2024级全国班师生参访了芯源微（688037.SH）上海临港厂区。上海芯源微董事长崔晓微向全体师生作主题分享，并就产业发展前景、企业经营管理心得、潜在合作机会挖掘等内容进行了互动交流。

近日，上海交通大学安泰学院EMBA 2024级全国班师生参访了芯源微（688037.SH）上海临港厂区。上海芯源微董事长崔晓微向全体师生作主题分享，并就产业发展前景、企业经营管理心得、潜在合作机会挖掘等内容进行了互动交流。

资料显示，芯源微主要从事半导体专用设备的研发、生产和销售，目前已形成前道涂胶显影设备、前道清洗设备、后道先进封装设备、化合物等小尺寸设备四大业务板块，产品完整覆盖前道晶圆加工、后道先进封装、化合物半导体等多个领域。

芯源微日前在互动平台上表示，公司化学清洗机具有高工艺覆盖性、高稳定性、高洁净度、高产能等多项核心优势，自产品发布以来，已受到下游客户广泛关注。2023年第四季度，公司化学清洗机获国内重要客户验证性订单，2024年上半年，化学清洗机拓客进展顺利。

上海芯源微基于在湿法领域的深厚积累，从单片式物理清洗领域切入单片化学清洗领域。据介绍，单片式化学清洗机应用于半导体湿法工艺，是芯片制造过程中的关键环节，主要用于晶圆表面污染物的去除或特殊表面处理，对实现最终芯片产品的高良率和可靠性至关重要。

此前，上海芯源微打造的高端产品单片式化学清洗机已经正式发布入市，并已获多个国内大客户订单，该设备适用于薄膜前后的清洗、干法蚀刻后清洗、离子注入灰化后清洗、CMP后清洗等多种清洗工艺，工艺覆盖率可以达到80%以上，同时瞄准客户卡脖子问题，将高温SPM作为重点研发工艺，致力于实现局部超越。

另据介绍，目前，在集成电路前道晶圆加工领域，芯源微主要产品为前道涂胶显影机、前道物理清洗机。

涂胶显影设备是与光刻机联机工作的核心工艺设备，芯源微是国内唯一可提供前道量产型涂胶显影设备的厂商，芯源微物理清洗机也保持着行业龙头地位。

分析人士认为，芯源微前道化学清洗机的推出，标志着公司从前道物理清洗领域成功跨入到技术含量更高、市场空间更大的前道化学清洗领域，将公司前道产品（涂胶显影+清洗）的国内市场空间由百亿级大幅提升至两百亿级，有望打开公司在前道清洗领域的成长空间。

数据显示，2023年芯源微实现收入17.17亿元，同比增长23.98%；归母净利润2.51亿元，同比增长25.21%。最近四年，公司经营业绩保持快速增长，营业收入、归母净利润年均复合增速均超过70%。

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