【风口解读】光刻机概念活跃美埃科技收涨4.01%，自主突破重要性凸显_新浪财经

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泡财经获悉，7月18日，A股光刻机概念活跃，美埃科技（688376.SH）收涨4.01%。

消息面上，据财联社7月17日电，外交部发言人林剑17日主持例行记者会。记者提问称，美国正在考虑采取更严格的措施，对日本和荷兰等国的公司施加压力，限制其与中国的芯片贸易。中方对此有何评论？林剑对此表示，中方已多次就美国恶意封锁打压中国半导体产业表明严正立场，美方将经贸科技问题政治化、泛安全化、工具化，不断加码对华的芯片出口管制，胁迫别国，打压中国半导体产业，严重破坏国际贸易规则，损害全球产供链稳定，不利于任何一方。中方对此一贯坚决反对。林剑称，希望相关国家明辨是非，坚决抵制胁迫，共同维护公平开放的国际经贸秩序，真正维护自身的长远利益。

《环球时报》援引消息称，知情人士透露，美国正在向日本和荷兰施压，称如果东京电子和阿斯麦等公司继续向中国提供先进半导体技术，美国将考虑采取最严厉的贸易限制措施。

阿斯麦为世界头部光刻机厂商。光刻工艺是芯片生产流程中最复杂、最关键的步骤，而光刻机是光刻工艺的核心设备。

平安证券认为，光刻机是半导体产业的核心设备，直接决定芯片制程的先进程度，重要性不言而喻，在全球半导体产业持续扩张的趋势下，光刻机市场规模长期可观；此外，光刻机开发难度大，产业垄断性强，是海外对华半导体制裁的重灾区，直接影响国内半导体产业先进制程的发展，因此光刻机自主突破的重要性尤为凸显，光刻机国产产业链颇具潜力。

美埃科技主营业务系空气净化产品、大气环境治理产品的研发、生产及销售。公司主要产品是风机过滤单元、过滤器产品、空气净化设备。

光刻机方面，公司招股书显示，公司为上海微电子装备（集团）股份有限公司开发国内首台28纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准（ISO Class 1级）洁净环境提供EFU（超薄型设备端自带风机过滤机组）及ULPA（超高效过滤器）等产品，亦已验收合格，助力国内光刻机事业突破卡脖子技术难题。

2024年第一季度，公司实现营业总收入2.73亿元，同比增长2.08%，归母净利润3539.20万元，同比增长5.44%。

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