【风口解读】光刻机概念活跃新莱应材收涨6.68%，美国正在向日本和荷兰施压？_新浪财经

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泡财经获悉，7月18日，A股光刻机概念活跃，新莱应材（维权）（300260.SZ）收涨6.68%。

消息面上，据财联社7月17日电，外交部发言人林剑17日主持例行记者会。记者提问称，美国正在考虑采取更严格的措施，对日本和荷兰等国的公司施加压力，限制其与中国的芯片贸易。中方对此有何评论？林剑对此表示，中方已多次就美国恶意封锁打压中国半导体产业表明严正立场，美方将经贸科技问题政治化、泛安全化、工具化，不断加码对华的芯片出口管制，胁迫别国，打压中国半导体产业，严重破坏国际贸易规则，损害全球产供链稳定，不利于任何一方。中方对此一贯坚决反对。林剑称，希望相关国家明辨是非，坚决抵制胁迫，共同维护公平开放的国际经贸秩序，真正维护自身的长远利益。

《环球时报》援引消息称，知情人士透露，美国正在向日本和荷兰施压，称如果东京电子和阿斯麦等公司继续向中国提供先进半导体技术，美国将考虑采取最严厉的贸易限制措施。

阿斯麦为世界头部光刻机厂商。光刻工艺是芯片生产流程中最复杂、最关键的步骤，而光刻机是光刻工艺的核心设备。

平安证券认为，光刻机是半导体产业的核心设备，直接决定芯片制程的先进程度，重要性不言而喻，在全球半导体产业持续扩张的趋势下，光刻机市场规模长期可观；此外，光刻机开发难度大，产业垄断性强，是海外对华半导体制裁的重灾区，直接影响国内半导体产业先进制程的发展，因此光刻机自主突破的重要性尤为凸显，光刻机国产产业链颇具潜力。

新莱应材主营业务为洁净应用材料和高纯及超高纯应用材料的研发、生产与销售。公司主要产品为高洁净真空室、泵、阀、法兰、管件、管道，产品主要应用于食品安全、生物医药和泛半导体等业务领域。

光刻机方面，据公司2021年6月22日互动易：光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。

新莱应材预计2024年半年度盈利1.20亿至1.47亿 =，净利润同比增长8.41%至32.80%。

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