长鑫G5量产:国产存储打到全球第几梯队?

长鑫G5量产:国产存储打到全球第几梯队?
2026年09月21日 08:37 市场资讯

(来源:通达信趋势财经)

国产旗舰里的内存,正在悄悄换"芯"。

长鑫第五代DRAM平台量产,24GB LPDDR5X进入国产主流旗舰——没有EUV,国产DRAM第一次摸到全球顶级量产工艺的门槛。

一、用户感知:从"能用"到"首发不落后"

普通用户对内存的感知,无非"够不够大、卡不卡"。

但供应格局已经变了。不到一年时间,国产内存完成了三级跳:

2025.10长鑫量产 LPDDR5X

,覆盖 12GB / 16GB / 24GB

不到一年24GB 版本进入国产主流旗舰

,大容量完成规模铺货

速率里程碑10667Mbps LPDDR5X

 在努比亚 NaviX Ultra 量产落地——国产最高速率 LPDDR5X 首次进入量产手机

全球首发LPDDR6 登陆小米 18 Fold

,国产内存首次站上"首发位"

能用 → 好用 → 首发不落后

这三步,国产内存只用了三年

二、G5 技术坐标系:没有 EUV,拿菜刀雕花

DRAM 行业不爱直接说纳米,爱用 1a、1b、1c,像小区楼栋编号。把各家最新量产平台摆到同一把尺子下,G5 的位置一目了然:

平台

设计尺寸

光刻手段

状态

三星 1b

约12–13nm

约4层 EUV

量产成熟

三星 1c

约11–12nm

5–6层 EUV

良率75%+

SK海力士 1c

约11–12nm

EUV 路线

26Q2供货

长鑫 G5

11.95nm

四重曝光·0层EUV

已量产

坐标定位:G5 有源区半间距 11.95nm,大致卡在三星 1b 与 1c 之间,离全球最顶尖量产平台只差一口气——而且手里没有 EUV。

各家手里的"EUV 层数":

三星 1b

~4层

三星 1c

5–6层

长鑫 G5

0 层

没有 EUV,长鑫用 DUV 多重曝光和刻蚀"拼"出精细图形,相当于拿菜刀雕花。

三项工艺,逐个拆开看:

四重曝光(SADP/SAQP 路线)

同一张图套刻四次,套歪一次就集体翻车,对套刻精度与刻蚀均匀性的要求指数级上升。

高介电常数金属栅

作用是降漏电、省功耗。逻辑芯片里常见,但 DRAM 电容对热预算极其敏感,适配难度不小。

45:1 深宽比电容孔

像在一根细吸管里刷油漆,还得刷匀——孔深是孔宽的 45 倍,刻蚀和填充都是地狱级。

硬功夫换来的结果:

11.95nm

有源区半间距

≥50%

每片晶圆裸片产出

6762nm

核心功能区高度

裸片产出提升至少 50%,规模效应一来,成本曲线就得往下走。

三、7 个月验证:比制程数字更吓人

2023

LPDDR5

2024

DDR5

2025

LPDDR5X

2026

LPDDR6 首发

国产 DRAM 产品代际节奏:一年一个台阶

G5 从技术开发到量产验证,被压缩到 7 个月 级别。DRAM 是极复杂的品类,7 个月走完工艺定型到客户验证,说明研发效率和产线调试已经换挡。

同期巨头在爬什么坡:

三星 1b 良率

92%

三星 1c 良率

75%+

海力士1c(Q1)

10%

海力士1c(Q4)

34%

巨头有 EUV,路径更直接;长鑫没 EUV,靠 DUV 多重曝光和工艺创新快速迭代。制程数字的差距可以量化,迭代速度的差距才是长期竞争的关键。

四、窗口期:HBM 吃香,通用 DRAM 漏风

三巨头把约 70% 的新增产能给了 HBM,通用 DRAM 供给被挤压。但 2026 年一季度,反直觉的一幕出现了:

~70%

三巨头新增产能中投向 HBM 的比例

HBM(单片晶圆)

营收指数

毛利指数

2026Q1 起产值已低于

DDR5 64GB RDIMM

通用 DRAM(单片晶圆)

营收:HBM 的 2 倍以上

毛利:接近 3 倍

SK海力士已放缓 HBM4

扩产,回头倾斜产能

巨头回头,不是良心发现,是发现这边更赚钱。竞争烈度阶段性下降,给长鑫留出了产能爬坡和客户拓展的空间。

4%

2025年二季度

一年 +150%

10%

2026年二季度

长鑫全球 DRAM 营收份额(同比)

瑞银提醒:高毛利窗口可能只剩 2–3 年。长鑫必须在门关上之前,完成从"能造"到"大规模造"的跨越。

五、G5 之后:下一关是什么

G5 是里程碑,不是终点。下一关至少有三道:

关卡 01产能关

产能爬坡速度,决定能否真正吃到这一轮涨价红利。

长鑫 2026年底

~35万片/月

美光 同期

38.5万片/月

长鑫 远期目标

60万片/月

关卡 02HBM 关

HBM3 及 HBM3E 量产已被列为 2026 年目标,但在技术积累、认证周期与大客户关系上,与三星、SK海力士仍有差距。这一关考的不只是造得出,更是进得去供应链。

关卡 03非 EUV 路线关 · 换道超车的机会

长鑫正在合肥测试键合式 DRAM 试产线:DUV 多重曝光 + 晶圆键合,绕开 EUV;3D DRAM 也被视为可能路径,业界预计 2027 年有望突破。

长鑫路线

平面微缩被 EUV 卡住,就换维度提密度——没有包袱,反而可能率先跑通

三星 / 海力士

现有 EUV 路线还能走,在新架构上反而相对保守

11.95 纳米,是国产存储打到的一关

真正的考验不是某一代追平谁,而是建立一条可持续迭代、不依赖外部关键设备的技术路径。G5 证明这条路走得通——下一关,是走得快、走得远。

资料说明:本文依据长鑫存储世界制造业大会发布信息及公开行业报道整理,工艺参数、良率与份额数据以厂商披露和机构报告为准;本文为产业科普分析,不构成投资建议。

— 通达信趋势财经 · 2026.09 —

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