据相关消息，三星电子近期已组建专门团队，着手研发下一代1nm工艺节点，计划在2029年实现量产目标。据悉，三星电子半导体研究所已经开始推进这一项目，部分曾参与2nm工艺研发的技术人员也被纳入该团队。
三星对1nm工艺寄予厚望，期望借此在全球高端芯片市场占据领先地位。公司内部将1nm工艺誉为“梦想中的半导体工艺”，其研发过程需要引入全新的技术理念，同时依赖高数值孔径极紫外光刻（High-NA EUV）设备等先进工具。然而，三星目前尚未明确是否已经采购了这些关键设备。
三星此举旨在与主要竞争对手争夺技术优势。当前，另一家领先的芯片制造商在先进制程领域始终处于行业前沿，其2nm工艺预计将在2026年下半年投入量产，而1nm工艺的研发也在稳步推进中。相较之下，三星的2nm工艺良率暂时落后于竞争对手，但其1.4nm工艺预计将在2027年实现量产。
通过加速1nm工艺的研发，三星希望在未来的技术竞争中实现突破，进一步缩小与行业领先者的差距，并巩固自身在全球半导体市场中的地位。
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