苹果屏下Face ID专利曝光 挖孔屏或被抛弃

苹果屏下Face ID专利曝光 挖孔屏或被抛弃
2025年01月16日 10:26 中关村在线

由于Face ID依赖于深感摄像头投射并分析大量点以精准捕捉人脸数据,当前技术尚无法将系统中的红外摄像头、点阵投影器等核心组件完全融入屏幕之下。因此,苹果目前只能采取妥协策略,使用药丸屏设计作为解决方案。

据媒体报道,苹果近期取得了一项关于屏下Face ID的专利,该专利成功攻克了屏下摄像头的技术瓶颈。

据了解,屏下Face ID首要攻克的是提升红外光透光率的难题。尽管红外光能够穿透显示屏,但其透射效率极低,若直接置于屏幕下方,将导致人脸识别速度大幅下降,且安全性和可靠性也会受到影响。

最新专利揭示,苹果通过移除部分子像素,使得红外光能够顺利穿透盖板,实现屏下人脸识别功能。

预计这一方案最早将于2026年的iPhone 18系列中得以应用,届时iPhone 18系列将采用单挖孔屏设计,告别现有的药丸屏形态。

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