运营商财经网康钊：恭喜国产光刻机取得重大突破！

运营商财经 康钊/文

近日，工信部发布了《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》，其中显示，集成电路设备方面，中国已研发成功氟化氩光刻机，光源193纳米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。那么，这是什么含义呢？其实还有喜有忧。

工信部其实是告知一个重要信息，即国产光刻机技术取得了实质性进步。光刻精度主要看的是光刻机的分辨率，65nm的分辨率，那么单次曝光能够达到的工艺制程节点大概就在65nm左右，所以，工信部的消息其实意味着国产光刻机已经实现了65纳米工艺的重大突破。可千万别小瞧这个进步，最近，荷兰遵照美国的意图，限制光科技巨头阿斯麦公司向中国出售NXT：1970 和 NXT：1980这两款光刻机，就是故意卡在65纳米工艺上了，中国宣告光刻机突破65纳米，美国的这个卡脖子政策也就没意义了，这就是喜的地方。

忧的地方是，还没有业内企业说见到了这个光刻机。中国首台（套）重大技术装备是指国内实现重大技术突破、拥有知识产权、尚未取得明显市场业绩的装备产品，包括整机设备、核心系统和关键零部件等。也就是说，这个65纳米工艺的国产光刻机还没到“取得明显市场业绩”的阶段，不知中芯国际之后是否会购买并大规模使用。

中国虽然攻克了65纳米工艺的光刻机，但距离国际先进水平还相差多远呢？实际上，荷兰阿斯麦公司2006年推出的干式DUV光刻机XT：1450的分辨率就已经达到了57nm，套刻精度为7nm。所以，65纳米的国产DUV光刻机性能与阿斯麦公司的技术实际差距超过18年，美国限制向中国出售的NXT：1970光刻机也是2007年就已推出的，17年前的老款光刻机都对中国不开放，可见美国对中国真是欺负到家了，但这回泡汤了。