ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装

ASML 推出 High NA EUV 光刻机 TWINSCAN EXE:5000 乐高套装
2024年12月02日 11:25 IT之家

IT之家 12 月 2 日消息,ASML 在官网纪念品商城上架了一款特殊的产品:世界首型 High NA EUV 光刻系统 TWINSCAN EXE:5000 的乐高模型套装。

TWINSCAN EXE:5000 光刻机是首款采用 0.55NA 数值孔径的光刻机,其分辨率达 8nm,成像对比度较此前的 NXE 系列 0.33NA EUV 系统高 40%,支持 2nm 逻辑节点图案化,单价达 3.5 亿欧元(IT之家备注:当前约 26.8 亿元人民币)。

▲ 左侧为实物,右侧为乐高模型▲ 左侧为实物,右侧为乐高模型
▲ 模型另一侧▲ 模型另一侧
▲ 桌面效果▲ 桌面效果

该乐高套装由 ASML 开发人员 —— 同样也是乐高爱好者 —— Rick Lenssen 设计,拥有 851 个部件,宽高深三维  352×99×64 mm,定价 227.95 美元(当前约 1653 元人民币)。

Rick Lenssen 此前曾耗时合计 2.5 年(1.5 年设计蓝图、1 年实际组装)用乐高积木复现了 ASML 的费尔德霍芬主园区,还推出过多款 ASML 主题的乐高套装产品。

▲ ASML 费尔德霍芬主园区。▲ ASML 费尔德霍芬主园区。

图源 Rick Lenssen 个人网站,下同

▲ ASML 老 Building (1)
▲ ASML 老 Building (1)
▲ ASML 费尔德霍芬园区部分建筑▲ ASML 费尔德霍芬园区部分建筑

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