【电子】产业政策持续加码，国产光刻机任重道远——半导体行业跟踪报告之二十三（刘凯/黄筱茜）

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光刻机：半导体制造业皇冠上的明珠

光刻机是光刻工艺的核心设备，主要由光学系统、机械系统和控制系统构成。目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新，五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点，即限制成品所能获得的最小尺寸。在光刻机的更新迭代中，对光源、光学透镜、反射镜系统提出了越来越高的要求。根据观知海内信咨询，2020年全球光刻机市场规模为170.9亿美元，预计2024年将达315亿美元。ASML、Nikon和Canon三分天下，ASML垄断高端EUV光刻机市场，Nikon、Canon占据中低端市场。

ASML龙头地位显著

ASML在10纳米节点以下有100%的市占率，是全球唯一能够生产EUV光刻机（极紫外光刻机）的公司，龙头地位显著。ASML2023年营收298亿美元，同比增长34%；GAAP净利润84.8亿美元，同比增长43%。2023年ASML合计销售光刻机450台，其中EUV销量为53台。EUV作为光刻机中的最先进产品，销售价格持续增长，2023年平均售价为1.91亿美元，同比增长2%。ASML24Q3订单及25年指引低于预期。

美国产业政策不断加码

美国对华芯片产业管制政策不断加码。2024年9月5日，美国商务部工业和安全局（BIS）在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则（IFR）。2024年9月6日，荷兰政府发布有关浸润式 DUV光刻设备出口的最新许可（金麒麟分析师）证要求，该政策与美国的出口管制要求“对齐”，ASML将需要向荷兰政府而非美国政府申请 TWINSCAN NXT：1970i 和1980i型号浸润式DUV光刻系统的出口许可证。此外美国BIS发布的IFR升级了对量子计算、先进半导体制造、GAAFET等相关技术的出口管制。美国众议院设立的中国问题特别委员会向半导体设备制造商——KLA、LAM、应用材料、TEL以及ASML发出信函，要求他们提供对中国的销售细节。信中明确要求这些公司在2024年12月1日前提交包括在华前30大客户的收入情况、对国家安全或贸易限制名单上公司的销售记录，以及任何将生产业务转移海外的计划等在内的详细信息。

光刻机国产化任重道远

目前国内的IC前道光刻机市场主要被ASML、Nikon和Canon瓜分。中国大陆光刻机进口金额不断增长，2023年ASML在中国大陆销售额为80.1亿美元，同比增长157.6%，ASML为中国大陆光刻机最大的进口来源。上海微电子是大陆光刻机头部厂商，其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面，上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大，国产光刻机任重道远。

风险分析：国产光刻机产业链研发进展不及预期；客户导入进度不及预期；国际贸易摩擦加剧。

发布日期：2024-11-18

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