磷化铟基板喊缺! NVIDIA"光铜并行"再点亮化合物半导体

磷化铟基板喊缺! NVIDIA"光铜并行"再点亮化合物半导体
2026年03月19日 09:24 电子产品世界

受惠光通讯产品需求爆发,全新光电、英特磊、稳懋、环宇和宏捷科等台系化合物半导体厂营运动能看增,供应链人士表示,磷化铟(InP)材料面临基板短缺,AI数据中心需求强劲,亦加剧市场供不应求的状况,成为AI追求高速传输必须克服的供应瓶颈。

NVIDIA于GTC 2026首度定调,随着AI算力需求持续攀升,未来数据中心互连将同时需要更多铜缆、光通讯与共同光学封装(CPO)产能,也就是明确抛出了「光铜并行」说法。 业界表示,目前市场主流的光模组技术为800G,未来也将朝向1.6T更高规格发展。

产业人士指出,随着芯片运算速度提高,AI数据中心发展最大的瓶颈是传输速度,磷化铟(InP)除了电子流动速度快,更适合高频应用,耐热特性也能在高温环境下展现较好的稳定度和调控效率,几乎成为唯一的材料选择。

不过,现在既有旧数据中心汰换需求,新建的AI数据中心投资规模也扩大,带动光通讯元件的需求增加很多,原厂产能无法立即跟上,加上InP基板短缺问题未全面解决,市场仍处于供不应求的状态。

化合物半导体厂商表示,全世界最大的InP基板供应商是日本Sumitomo、以及生产基地在中国的美国AXT,德国Freiberger也有供应,另也有法国和日本供应商在产量上有突破,但由于InP生产机台要可以抗3倍的大气压力,日本规定生产相关产品的验证时间需18个月,因此供给端的产能纾解,仍须一段时间。

英特磊董事长高永中日前则表示,受到中国出口管制影响,2025年下半遇到基板短缺问题,InP磊晶比例稍微下滑,公司已采取由部分客户提供基板材料,截至2025年第4季客户提供基板材料占比低于20%,2026年可能超过30%。

光模组主要由发射和接收端组成,英特磊表示,InP 200G PIN接收组件将为2026年成长主力,并开发200G面射型激光(VCSEL)磊晶片,以及发展量子点激光磊芯片,目前光通讯产品占比51.8%,已高于电子产品。

环宇在接收和发射端皆有布局,2026年将量产200G PD和CW Laser产品,其中70mW CW Laser则已完成认证,准备开始量产,大客户的200G PD则预计第2季进入量产。

稳懋先前在法说会上表示,PD、CW DFB和EML等产品,已进入验证阶段,因验证时间差异,接收端有机会在2026年贡献营收。

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