美报告:中国芯片研究论文以绝对优势处于领先地位

美报告:中国芯片研究论文以绝对优势处于领先地位
2025年03月04日 18:39 IT之家

IT之家 3 月 4 日消息,美国乔治敦大学“新兴技术观察项目(ETO)”3 日在其网站发布一份报告称,2018 年至 2023 年期间,全球共发布了约 47.5 万篇与芯片设计和制造相关的论文。这一数据基于包含英文标题或摘要的文章统计,未涵盖无英文摘要的非公开研究。整体来看,芯片研究论文在这五年间增长了 8%,尽管这一增速不及人工智能(AI)或大型语言模型(LLM)等热门研究领域,但芯片设计与制造研究仍保持了稳定的增长态势。

报告称,在芯片设计与制造论文领域,中国以绝对优势领先于其他国家。数据显示,其中 34% 的论文有来自中国机构的作者参与15% 的论文有美国作者参与,18% 的论文有欧洲作者参与。需要注意的是,部分文章未提供作者机构和国家信息,且分析未包括非英文摘要的文章,这可能对统计结果产生一定影响。尽管如此,中国在这一领域的领先地位依然十分明显。在高被引文章(定义为每年发表文章中被引用次数排名前 10% 的文章)中,中国作者的比例高达 50%,远超美国(22%)和欧洲(17%)。韩国和德国分别位列第三和第四位,但与中、美仍有较大差距。

IT之家注意到,在芯片研究论文产出最多的十大机构中,有九家来自中国,其中中国科学院以 2018-2023 年期间发布的 14,387 篇文章位居榜首。这一统计仅涵盖英文文章,若将中文文章纳入统计,中国机构的产出数量可能更高。在高被引文章的统计中,中国机构更是占据了前八名。以引用次数排名前 10% 的芯片设计与制造论文数量为指标,全球领先的机构依次为中国科学院、中国科学院大学和清华大学。此外,新加坡国立大学和法国国家科学研究中心(CNRS)也是该领域的重要研究机构,后者在文章数量上位列全球第三。

通过对高被引文章的分析,可以发现芯片设计与制造领域的研究热点。在 2018-2023 年期间被引用次数最高的十篇芯片设计与制造文章中,许多研究聚焦于半导体应用中的二维材料,如石墨烯和 MXenes,过渡金属及其化合物也是热门研究对象,包括铁磁性过渡金属和过渡金属二硫化物等。

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