原标题:台积电2nm芯片研发获得重大突破,有望2023年推出 来源:OFweek通信网
近日,据台媒透露,台积电2nm采用全新的多桥通道场效晶体管(MBCFET)架构,区别于以往3nm与5nm采用鳍式场效晶体管(FinFET)架构,目前研发已取得重大突破,有望于2023下半年年推出。
此前台积电5nm已经量产,3nm预计2022年量产,如今2nm研发现取得重大突破,并有望量产。
对此,市场人士分析,台积电新研发的2nm有助于其未来持续拿下苹果、辉达等大厂先进制程大单,狠甩三星。
去年6月,台积电正式宣布启动2nm工艺的研发。
长久以来,半导体制造业三大巨头企业台积电,与英特尔、三星,在芯片制程逐渐缩小的路上,拼命追赶。
英特尔坚持在14nm,10nm制程上的研发之时,三星和台积电已经把5nm量产提上了日程,目前公开称有5nm芯片制造能力的只有台积电和三星两家。
台积电在2nm研发上切入全环栅场效应晶体管GAA时,三星则早在2年前其揭露3nm技术工艺时,就宣布从FinFET转向GAA,并对外喊话称:2030年要超过台积电,取得全球芯片代工龙头地位。
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